真空爐
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產品描述
參數
濺射是一種先進的薄膜材料制備技術,它利用離子源產生的離子,在真空中加速聚集成高速離子流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發生動能交換,使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面,從而形成納米(或微米)薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。鎢鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜,這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品,如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta l Displays,薄膜半導體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMOS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
衡量靶材的質量主要因素有純度、致密度、晶粒尺寸及分布等。
為保證靶材質量，洛陽愛科麥采用以下技術，
（1）選擇高純鉬粉作為原料；
?。?）快速致密化的成形燒結技術,以保證靶材的低孔隙率,并控制晶粒度；
（3）制備過程嚴格控制雜質元素的引入；
?。?）對部分高要求產品采用熱等靜壓方法，此方法制得的鉬鈮靶材了95％～99％的極高密度細晶粒產品。
此外，靶材還有以下優勢：
1.產品大型化生產出了單張尺寸規格為1130mm*1200mm*10mm適合于G4.5代TFT鍍膜設備的鉬合金靶材。
2.為適應市場提高靶材利用率需求，可制造長度超過3米的旋轉靶材。
3.可生產10mm*200mm*L，適用于G8代線以上的純鉬靶材。
4.可用熱等靜壓設備制造出高質量的金屬及陶瓷類靶材。
關鍵詞:
薄膜
固體
表面
顯示器
技術
半導體
產品
離子
濺射
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鉬旋轉靶材
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